在半導體芯片微型化、光學器件高精度化的發(fā)展浪潮中，化學機械拋光（CMP）作為實現(xiàn)材料表面全局平面化的關鍵工藝，其技術水平直接決定了終端產(chǎn)品的性能與品質(zhì)。氧化鈰拋光液憑借其獨特的化學機械協(xié)同作用優(yōu)勢，成為CMP工藝中的核心耗材之一。吉致電子深耕拋光材料領域多年，憑借自主研發(fā)的氧化鈰拋光液系列產(chǎn)品，為半導體、光學等多個行業(yè)提供高效、精準的拋光解決方案，助力產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。

聚焦核心場景解鎖全行業(yè)拋光價值

吉致電子氧化鈰拋光液基于不同行業(yè)的拋光需求，進行精準配方設計，在關鍵領域?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定應用，展現(xiàn)出強大的場景適配能力。

①半導體領域：晶圓平面化的“精準利器”

半導體芯片制造過程中，晶圓表面的平整度直接影響光刻、蝕刻等后續(xù)工序的精度，對拋光工藝提出了極高要求。吉致電子氧化鈰拋光液針對硅片（晶圓）全局平面化、SiO?介質(zhì)層拋光以及淺溝槽隔離（STI）結構拋光等核心工序，優(yōu)化了氧化鈰顆粒形貌與粒徑分布。產(chǎn)品在拋光過程中能快速去除晶圓表面的凸起缺陷，同時有效抑制劃痕、凹陷等二次損傷，實現(xiàn)納米級表面粗糙度控制。無論是12英寸大尺寸晶圓還是高精度半導體器件的制造，吉致電子氧化鈰拋光液都能保障穩(wěn)定的拋光速率與優(yōu)異的表面質(zhì)量，為芯片性能提升奠定堅實基礎。

②光學領域：高清成像的“表面守護者”

光學玻璃、藍寶石襯底等光學材料的表面質(zhì)量直接決定了鏡頭、顯示屏、激光器件等產(chǎn)品的透光率、成像質(zhì)量與使用壽命。吉致電子針對光學材料硬脆、易劃傷的特性，研發(fā)的氧化鈰拋光液采用低損傷拋光配方，通過調(diào)控化學活性成分與顆粒分散性，在高效去除材料表面加工痕跡的同時，形成光滑均勻的表面形貌。經(jīng)其拋光后的光學部件，表面粗糙度可低至亞納米級，透光率顯著提升，完美適配手機鏡頭、車載攝像頭、高端顯示屏等高精度光學產(chǎn)品的制造需求，成為光學行業(yè)高品質(zhì)拋光的優(yōu)選方案。

③硬脆材料領域：精密部件的“品質(zhì)保障”

在陶瓷、石英、微晶玻璃等硬脆材料的精密加工中，傳統(tǒng)拋光方式易出現(xiàn)效率低、表面質(zhì)量差等問題。吉致電子氧化鈰拋光液憑借硬度適中、化學活性強的優(yōu)勢，實現(xiàn)了化學腐蝕與機械研磨的精準協(xié)同，既能快速去除加工余量，又能避免材料表面產(chǎn)生微裂紋。目前，該產(chǎn)品已廣泛應用于陶瓷軸承、石英諧振器、精密陶瓷基片等部件的最終拋光工序，助力客戶提升產(chǎn)品精度與合格率，降低生產(chǎn)成本。

四大核心優(yōu)勢定義CMP拋光新高度

吉致電子氧化鈰拋光液的卓越表現(xiàn)，源于對材料特性、配方設計與工藝適配的深度鉆研，其核心優(yōu)勢貫穿拋光全流程，為客戶創(chuàng)造多重價值。

①高效拋光：兼顧速率與成本的雙重優(yōu)化

產(chǎn)品采用高活性氧化鈰粉體為核心磨料，通過獨特的晶格缺陷調(diào)控技術，增強了磨料與被拋光材料的化學反應活性。同時，優(yōu)化的分散體系確保磨料顆粒均勻分布，避免團聚導致的拋光效率下降。與傳統(tǒng)拋光液相比，吉致電子氧化鈰拋光液的材料去除速率提升20%以上，有效縮短拋光周期，降低單位面積拋光成本，為大規(guī)模量產(chǎn)提供高效支撐。

②超優(yōu)表面：實現(xiàn)納米級平整的品質(zhì)突破

依托精準的顆粒粒徑控制技術（粒徑偏差≤5%）與低黏度配方設計，產(chǎn)品在拋光過程中能形成穩(wěn)定的研磨界面，減少磨料對材料表面的機械損傷。經(jīng)第三方檢測，采用吉致電子氧化鈰拋光液拋光后的工件，表面粗糙度Ra可低至0.1nm以下，無劃痕、無雜質(zhì)殘留，完全滿足半導體、光學等高端領域?qū)Ρ砻尜|(zhì)量的嚴苛要求。

③精準選擇：保障復雜結構的拋光精度

針對半導體芯片等復雜結構的拋光需求，吉致電子通過調(diào)控配方中的化學抑制劑與活性劑比例，實現(xiàn)了對不同材質(zhì)的精準選擇性拋光。產(chǎn)品對SiO?等氧化物的拋光速率遠高于硅、鎢等金屬材料，選擇性可達10:1以上，能精準控制不同材質(zhì)區(qū)域的去除量，避免過度拋光導致的結構損壞，保障復雜器件的制造精度。

④綠色環(huán)保：契合產(chǎn)業(yè)可持續(xù)發(fā)展需求

吉致電子始終秉持綠色制造理念，氧化鈰拋光液采用低腐蝕配方體系，不含重金屬等有害成分，pH值穩(wěn)定在中性至弱堿性范圍，對設備腐蝕性低。同時，產(chǎn)品廢液的COD（化學需氧量）值較傳統(tǒng)拋光液降低30%以上，處理難度與成本顯著降低，契合國家環(huán)保政策與行業(yè)可持續(xù)發(fā)展趨勢，助力客戶實現(xiàn)綠色生產(chǎn)。

吉致電子：以技術創(chuàng)新引領拋光材料升級

作為專注于高端拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)的企業(yè)，吉致電子建立了從氧化鈰粉體合成、配方研發(fā)到規(guī)?；a(chǎn)的全產(chǎn)業(yè)鏈體系。公司擁有一支由材料學、化學工程等領域?qū)＜医M成的研發(fā)團隊，配備先進的粒徑分析、表面粗糙度檢測等實驗設備，能根據(jù)客戶個性化需求快速定制拋光解決方案。憑借嚴格的質(zhì)量控制體系（通過ISO9001質(zhì)量管理體系認證）與完善的售后服務網(wǎng)絡，吉致電子氧化鈰拋光液已獲得眾多行業(yè)頭部客戶的認可與信賴。

未來，吉致電子將持續(xù)聚焦CMP工藝的技術迭代需求，深入探索氧化鈰拋光液的性能優(yōu)化與場景拓展，不斷推出更高效、更精準、更環(huán)保的拋光材料產(chǎn)品，為半導體、光學等產(chǎn)業(yè)的技術升級注入更強動力！

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