非晶鋯（Amorphous Zirconium），也常被稱為鋯基非晶合金或鋯基大塊金屬玻璃（Zr-based Bulk Metallic Glass, Zr-BMG），是一種通過特殊工藝使鋯（Zr）與其他金屬元素（如銅、鎳、鋁、鈦等）形成的無定形晶體結(jié)構(gòu)的金屬材料，核心特征是原子排列不具備傳統(tǒng)晶體材料的長程有序性，呈現(xiàn)“玻璃態(tài)”的微觀結(jié)構(gòu)。

由于其“高強度、高耐磨、高耐蝕”的綜合性能，非晶鋯已在多個高要求領(lǐng)域落地應(yīng)用：

醫(yī)療領(lǐng)域

•口腔修復(fù)：非晶鋯的硬度與牙釉質(zhì)接近，耐口腔酸堿腐蝕，且生物相容性優(yōu)異（無鎳元素析出風(fēng)險），可用于制作牙冠、牙橋；

•醫(yī)療器械：如手術(shù)鑷子、微創(chuàng)器械的尖端部件，利用其高硬度和耐磨性延長使用壽命。

精密制造與電子領(lǐng)域

•電子元件：如半導(dǎo)體設(shè)備中的耐磨部件、連接器插針，利用其高硬度和無磁性避免干擾；

•精密模具：如微注塑模具的型腔，利用其優(yōu)異的表面光潔度（拋光后Ra可低至納米級）和耐磨性。

航空航天與特種領(lǐng)域

•輕量化結(jié)構(gòu)件：如小型衛(wèi)星的支架部件，利用其“高強度 - 低密度”特性（密度約6.0 g/cm³，低于鈦合金的4.5 g/cm³）減重；

•耐腐蝕部件：如化工領(lǐng)域的微型閥門、傳感器探頭，耐受強酸強堿環(huán)境。

非晶鋯/鋯基非晶合金的表面處理CMP拋光通常可以使用以氧化鋁、氧化鈰或氧化鋯為磨料的CMP Slurry拋光液（僅供參考）。

氧化鋁拋光液：氧化鋁具有較高的硬度，莫氏硬度達9級，能夠有效地去除非晶鋯表面的材料，實現(xiàn)較高的材料去除率。通過溶膠 - 凝膠技術(shù)可將氧化鋁粒徑控制在合適范圍，如 γ 型氧化鋁因粒度細(xì)至0.03μm，可用于精密拋光。同時，添加聚丙烯酸類分散劑等添加劑，可使懸浮液在pH值4-9范圍內(nèi)保持穩(wěn)定，避免顆粒團聚產(chǎn)生劃痕等缺陷。

氧化鈰拋光液：氧化鈰拋光液利用氧化鈰顆粒的化學(xué)活性與機械研磨雙重作用實現(xiàn)高精度拋光，具有高拋光效率、低表面損傷、優(yōu)異的選擇性等優(yōu)勢，可針對性拋光非晶鋯而不損傷襯底，廣泛應(yīng)用于對表面平整度、潔凈度要求極高的精密制造領(lǐng)域。

氧化鋯拋光液：納米氧化鋯拋光液軟硬度適中，不會劃傷非晶鋯表面，且其懸浮性好，不易沉淀，分散性好、乳液均一，能極大提高拋光效率和精度，適用于非晶鋯等材料的精密拋光。

吉致電子專注于CMP拋光液的研發(fā)與生產(chǎn)，針對非晶鋯的材料特性，推出了氧化鋁、氧化鈰和氧化鋯三大類拋光液產(chǎn)品。該系列產(chǎn)品在磨料粒徑控制、懸浮穩(wěn)定性和拋光效率等方面均達到行業(yè)先進水平，可滿足醫(yī)療、精密制造、電子及航空航天等領(lǐng)域的高標(biāo)準(zhǔn)拋光需求，為客戶提供高效、穩(wěn)定、優(yōu)質(zhì)的拋光解決方案，助力非晶鋯在高價值領(lǐng)域的應(yīng)用升級。

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