吉致電子CMP放射狀同心圓開槽紋理拋光墊,賦能精密拋光
在化學機械拋光CMP工藝中,拋光墊作為核心耗材,其紋理設計直接影響拋光效率、表面質量與材料適配性。其中,放射狀同心圓開槽紋理拋光墊憑借獨特的結構優(yōu)勢,成為半導體、光學、金屬及陶瓷等領域精密加工的關鍵支撐,為電子材料制造注入高效、穩(wěn)定的技術動力。
一、核心特性:精準破解拋光工藝痛點
放射狀同心圓開槽紋理融合了兩種溝槽設計的優(yōu)勢,從拋光液管理、材料去除、碎屑處理到表面均一性控制,全方位優(yōu)化拋光過程,解決傳統(tǒng)拋光墊易出現(xiàn)的局部干涸、排屑不暢、邊緣過度磨損等問題。
1. 拋光液均勻分布,保障反應連續(xù)性
放射狀溝槽可引導拋光液從拋光墊中心向邊緣快速擴散,大幅擴大拋光液儲存空間;同心圓溝槽則進一步對拋光液進行 “有序引流”,避免局部區(qū)域因拋光液流失導致的干涸現(xiàn)象。數(shù)據(jù)顯示,相較于無溝槽拋光墊,該類型拋光墊可使晶片表面拋光液覆蓋率提升 40%,持續(xù)為拋光區(qū)域提供新鮮、均勻的拋光液,保障化學作用與機械研磨的穩(wěn)定協(xié)同。
2. 提升材料去除速率,兼顧效率與質量
新鮮拋光液的持續(xù)供給,能維持其化學反應活性,同時溝槽間的凸起部分形成 “微研磨單元”,有效提升機械去除貢獻比例。實際應用中,放射狀同心圓開槽紋理拋光墊可使材料去除速率(MRR)提高 25%-30%,在高效加工的同時,避免因局部研磨力度不均導致的表面劃傷,平衡 “效率” 與 “精度” 兩大核心需求。
3. 強效排屑,減少表面缺陷
放射狀溝槽為拋光過程中產(chǎn)生的碎屑提供了高效排出通道,排屑速率較無溝槽拋光墊高 2-3 倍;若將同心圓溝槽設計為向圓周邊緣傾斜,還能借助離心力加速碎屑甩出,徹底避免碎屑堆積在拋光界面造成的表面污染與劃痕。這一特性對高硬度、高精密要求的材料加工尤為關鍵,可顯著降低產(chǎn)品不良率。
4. 優(yōu)化研磨均一性,解決邊緣效應
通過調節(jié)放射狀溝槽的長度、同心圓溝槽的間距與偏置角度,可精準控制拋光墊與工件的接觸方式,平衡摩擦系數(shù)與剪切應力分布。例如,部分設計中會將同心圓溝槽圓心偏置,并在中央保留無溝槽區(qū)域,既避免工件邊緣因拋光液流量過大導致的過度磨損,又能提升整體表面平坦度,有效解決 CMP 工藝中常見的 “邊緣效應”,保障工件全域加工精度一致。
二、廣泛適配:覆蓋多領域電子材料精密加工
基于卓越的拋光性能,放射狀同心圓開槽紋理拋光墊可滿足不同材質、不同精度要求的加工需求,成為電子制造產(chǎn)業(yè)鏈中多領域的 “通用型” 精密拋光解決方案。
1. 半導體領域:助力晶圓高質量制造
在硅(Si)、碳化硅(SiC)、砷化鎵(GaAs)等半導體晶圓拋光中,該類型拋光墊能提供平穩(wěn)的支撐力與均勻的磨削強度。以 SiC 晶圓為例,其高硬度特性對拋光墊的耐磨性與均一性要求極高,放射狀同心圓開槽紋理可精準控制拋光液分布與研磨力度,有效降低晶圓表面粗糙度,提升器件的電性能與可靠性,為功率半導體、射頻器件等高端芯片制造奠定基礎。
2. 光學領域:保障光學器件透光性與精度
針對平板玻璃、LCD/LED 基板玻璃、光學玻璃、藍寶石等光學材料,拋光表面的光潔度與平整度直接影響器件透光性與成像質量。放射狀同心圓開槽紋理拋光墊通過均勻的拋光液供給與強效排屑,可避免光學材料表面出現(xiàn)劃痕、霧斑等缺陷,最終獲得超高光潔度的光學表面,滿足顯示器、攝像頭鏡頭、激光器件等高精度光學產(chǎn)品的加工需求。
3. 金屬及合金領域:提升表面光潔度
在鋁、銅、不銹鋼等金屬及合金材料拋光中,該類型拋光墊可通過良好的排屑能力,避免金屬碎屑堆積導致的表面劃傷;同時,均勻的研磨力度能防止局部過度磨損,顯著提升金屬表面的光潔度與平整度,為電子連接器、散熱部件等金屬結構件提供優(yōu)質的表面處理方案。
4. 陶瓷領域:突破高硬度材料加工瓶頸
氮化鋁、氮化硼等陶瓷材料因硬度高、耐磨性強,傳統(tǒng)拋光墊難以實現(xiàn)高效精密加工。放射狀同心圓開槽紋理拋光墊可通過精準引導拋光液,平衡化學作用與機械研磨力度,在不損傷陶瓷表面的前提下,實現(xiàn)高效拋光,滿足陶瓷基板、精密陶瓷零件在電子封裝、機械制造等領域的高精度應用需求。
三、吉致電子:以創(chuàng)新耗材賦能產(chǎn)業(yè)升級
作為專注于電子制造領域核心耗材研發(fā)與生產(chǎn)的企業(yè),吉致電子深刻洞察 CMP 工藝對拋光墊的高性能需求,通過對放射狀同心圓開槽紋理的結構優(yōu)化與材質創(chuàng)新,打造出適配多領域、多材質的精密拋光墊產(chǎn)品。我們始終以 “技術驅動、品質為先” 為理念,從設計、生產(chǎn)到檢測,全流程嚴格把控產(chǎn)品質量,為客戶提供高效、穩(wěn)定、定制化的拋光解決方案,助力電子材料加工產(chǎn)業(yè)向更高精度、更高效率、更高可靠性方向發(fā)展。
未來,吉致電子將持續(xù)深耕拋光技術研發(fā),不斷探索拋光墊紋理設計與材料性能的優(yōu)化空間,為半導體、光學、新能源等領域的技術突破提供更有力的耗材支撐,攜手客戶共筑電子制造產(chǎn)業(yè)的高質量發(fā)展生態(tài)。
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
相關資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 吉致電子CMP放射狀同心圓開槽紋理拋光墊,賦能精密拋光
- 半導體CMP工藝核心:金屬互聯(lián)層與介質層Slurry拋光液的類型劃分
- CMP拋光墊怎么選?吉致電子聚氨酯拋光墊適配全工序需求
- 國產(chǎn)CMP拋光墊:吉致電子無紡布墊如何比肩Fujibo?
- 硅晶圓芯片拋光如何選擇無蠟吸附墊?
- 化學機械拋光(CMP)如何優(yōu)化陶瓷覆銅板平坦化?
- 如何解決二氧化硅拋光液結晶問題?吉致電子CMP拋光專家支招
- 半導體銅CMP拋光液:銅互連工藝的核心材料
- 硬盤玻璃的表面拋光主要用什么工藝?
- 鈮酸鋰/鉭酸鋰晶體拋光液成分及特點
最新資訊文章
您的瀏覽歷史
