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吉致電子玻璃硬盤專用CMP拋光液|光儲半導體行業(yè)超精密拋光技術
產品名稱:光儲玻璃硬盤/玻璃光盤CMP拋光液
產品特點:吉致電子光儲玻璃介質拋光液Slurry納米級拋光,低缺陷率。硬盤/光學玻璃專用,國產替代進口
- 精密陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液
- 吉致電子·精密陶瓷件拋光液·半導體拋光液
產品名稱:氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
產品特點:適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
- SiC碳化硅襯底研磨拋光產品
- 吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導體晶圓拋光
產品名稱:碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產品特點:Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國產替代
- 半導體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
- 產品名稱:鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學配方/可定制
玻璃硬盤CMP拋光液·參數(shù)吉致電子|CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產品名稱:玻璃硬盤 玻璃光盤拋光液|光學存儲介質及半導體級玻璃基板CMP化學機械拋光液
玻璃硬盤CMP拋光液作用: 吉致電子JEEZ玻璃硬盤專用CMP化學機械拋光研磨液/拋光液,專為玻璃光盤、玻璃硬盤、光學存儲介質及半導體級玻璃基板設計,提供納米級平坦化與超低表面粗糙度(Ra<0.5nm)的拋光解決方案。本產品采用高純度氧化鈰(CeO2)與定制化SiO2膠體磨料,結合獨家化學腐蝕配方,實現(xiàn)玻璃光盤的高效、低缺陷拋光,滿足光存儲(如微軟Project Silica)、半導體封裝(如2.5D/3D IC轉接板)等高端應用需求。
吉致電子可提供各光學晶體/玻璃/紅外窗口/半導體CMP拋光液及解決方案
1. 超精密表面處理
原子級光滑:表面粗糙度AFM檢測,確保玻璃光盤數(shù)據(jù)層無干擾讀寫。
2. 高材料去除率(MRR)與選擇性
MRR≥500nm/min(石英玻璃),同時抑制凹陷(Dishing)<1%。
pH智能調節(jié),優(yōu)化玻璃表面化學反應速率,減少機械損傷。
3. 環(huán)保與穩(wěn)定性
無重金屬配方,符合歐盟RoHS標準,廢液易處理。
懸浮穩(wěn)定性好,顆粒分散均勻,杜絕團聚劃傷。
4. 全場景適配
兼容8-12英寸玻璃基板,支持CMP設備(如AMAT、Ebara、華海清科)集成。
*可以依客戶不同工藝要求,提供定制化服務
*提供全套解決方案,及免費安排工程師上門服務
通過優(yōu)化CMP工藝參數(shù),玻璃硬盤可實現(xiàn)納米級超光滑表面,滿足高端光儲行業(yè)嚴苛要求。無錫吉致電子提供專業(yè)的玻璃硬盤CMP拋光解決方案,如需進一步技術咨詢,歡迎聯(lián)系我們的工程師團隊!
為什么選擇吉致電子?玻璃硬盤拋光液廠家直銷|CMP化學機械拋光液,納米級,無殘留,支持定制
①10年+CMP耗材研發(fā)生產經驗,服務全球100+科研/工業(yè)客戶。
②免費工藝調試,提供技術文檔與售后支持。
③拋光方案及配方靈活定制,根據(jù)客戶需求調整磨料濃度、添加劑配方。
吉致電子玻璃硬盤拋光液儲存方法:
通風,陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽光直射及凍結,零度以下因產生不可再分散結塊而失效。
吉致電子的光學晶體CMP拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。
本土化生產的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無錫吉致電子科技有限公司
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- 產品名稱:鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學配方/可定制
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