吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

半導(dǎo)體拋光液是什么？[ 09-15 15:51 ]

  半導(dǎo)體拋光液是什么？簡單來說拋光液是通過化學(xué)機(jī)械反應(yīng)，去除半導(dǎo)體工件表面的氧化層，達(dá)到光潔度和高平坦要求的化學(xué)液體。  半導(dǎo)體CMP拋光液是超細(xì)固體研磨材料和化學(xué)添加劑的混合物，制備成均勻分散的懸浮液，起到研磨、潤滑和腐蝕溶解等作用，主要原料包括研磨顆粒、PH調(diào)節(jié)劑、氧化劑和分散劑等。拋光液的分類：根據(jù)酸堿性可以分為：酸性拋光液和堿性拋光液、中性拋光液。根據(jù)拋磨材質(zhì)可以分為：金屬拋光液和非金屬拋光液。根據(jù)拋光對象不同，拋光液可分為銅拋光液、鎢拋光液、硅拋光液和鈷拋光液等。其中，銅拋光液和鎢拋

什么是混合磨料拋光液？[ 09-08 16:12 ]

混合磨料拋光液  拋磨工件材質(zhì)的升級和發(fā)展，對鏡面要求越來越高，單一的磨料已無法滿足CMP行業(yè)需求，研究人員開始嘗試將不同粒徑、不同形貌的一種或多種粒子組合到一起使用，開發(fā)出混合型拋光液。比如，在大粒徑二氧化硅中加入小粒徑的氧化硅，這樣能明顯提高拋光速率，且粒徑相差越大提升率越高，這是因?yàn)樵谀チ显诳偟馁|(zhì)量分?jǐn)?shù)不變的條件下，增大小粒徑磨料的占比能增加硅溶膠顆粒的總體數(shù)量，從而起到了提高拋光速率的作用。  大量的研究成果表明，混合粒子的使用能夠不同程度的提高化學(xué)機(jī)械拋光的速率，但是對拋光后表面粗糙度

什么是單一磨料的CMP拋光液？[ 08-31 16:11 ]

單一磨料拋光液化學(xué)機(jī)械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料，如氧化鋁拋光液（Al2O3）、二氧化硅拋光液（SiO2）、二氧化鈰拋光液（CeO2）、氧化鋯拋光液（ZrO2）和金剛石拋光液等。其中研究應(yīng)用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高，多用于藍(lán)寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光，但含Al2O3的拋光液會出現(xiàn)選擇性低、分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚的問題，容易在拋光表面造成劃傷，一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。氧化硅拋光液--SiO2具有良好的

CMP拋光液中磨料對拋光效果的影響[ 08-30 15:49 ]

磨料對拋光效果的影響在CMP拋光過程中磨料的作用是借助機(jī)械力，通過化學(xué)反應(yīng)去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜，從而達(dá)到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類磨料的種類和材質(zhì)決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑，從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實(shí)驗(yàn)中相對于氧化鋁拋光液Al2O3磨料，氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小，拋光時(shí)磨料嵌入晶圓表面的深度較小。 此外，通過優(yōu)

磨料在CMP拋光液中的作用[ 08-26 14:45 ]

  拋光磨料是CMP拋光液中的主要成分，在拋光過程中通過微切削、微擦劃、滾壓等方式作用于工件表面，達(dá)到機(jī)械去除材料的作用。  拋光液根據(jù)磨料成分一般分為單一磨料拋光液，混合磨料拋光液，復(fù)合磨料拋光液  磨料在CMP拋光過程中起到的作用為：（1）機(jī)械作用的實(shí)施者，起機(jī)械磨削作用；（2）傳輸物料的功能，不僅將新鮮漿料傳輸至拋光墊與被拋材料之間，還將反應(yīng)物帶離材料表面，使得材料新生表面露出，進(jìn)一步反應(yīng)去除。所以選擇拋光液時(shí)記得考慮分散性好，流動性好，硬度適中，易于清洗的拋光液產(chǎn)品，有相關(guān)問題

吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 08-19 15:44 ]

硅溶膠拋光液又稱氧化硅拋光液，通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)過鈍化添加化學(xué)助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應(yīng)用于集成電路半導(dǎo)體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠家，可根據(jù)客戶不同工藝要求定制調(diào)整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規(guī)模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導(dǎo)體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導(dǎo)攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機(jī)系統(tǒng)等。4.廣泛應(yīng)用于CMP化

不銹鋼拋光液如何達(dá)到鏡面效果[ 08-18 14:29 ]

  在金屬表面處理過程中，不銹鋼平面拋光達(dá)到鏡面效果是最常見的要求，要求也各不相同。如果想達(dá)到高質(zhì)量的拋光效果，最重要的是要有專業(yè)的平面磨拋機(jī)、優(yōu)質(zhì)拋光耗材（拋光液、拋光墊）和相應(yīng)的配套拋光方案，以及熟練的操作人員。不銹鋼拋光程序取決于工件毛坯的粗糙度，如機(jī)加工，電火花，磨削，鑄造等產(chǎn)生的凹坑、毛刺、劃痕、麻點(diǎn)等問題。  吉致電子小編帶您了解一下什么是不銹鋼鏡面拋光。要達(dá)到不銹鋼工件拋光的鏡面效果，一般分為粗拋、中拋、精拋三個(gè)步驟。粗拋:又叫“開粗”，主要是通過研磨拋光機(jī)

金剛石研磨液/拋光液的特點(diǎn)[ 08-08 17:01 ]

在研磨拋光過程中有四個(gè)基本要素:工件、研磨液、研磨拋光盤和研磨條件。金剛石研磨液/拋光液是隨著我國電子工業(yè)的發(fā)展而迅速發(fā)展起來的一種液體拋光材料。主要用于加工陶瓷材料、硅片、硬質(zhì)合金等的自動研磨拋光機(jī)。金剛石液體研磨/拋光液基本有三種形式:水基、油基和和乳化液。水基/油基 金剛石研磨液因其易清洗、易污染、使用方便，已廣泛應(yīng)用于自動磨削/拋光機(jī)中。一般金剛石研磨液使用的金剛石微粉有兩種：多晶金剛石（聚晶金剛）和單晶金剛石微粉。金剛石粒度為0.25～40μm，常用規(guī)格為1～6μm。加入的金剛石微粉粒度不同，制備成不同規(guī)

怎么提高氧化鈰拋光液的穩(wěn)定性？[ 07-26 15:28 ]

怎么提高氧化鈰拋光液的穩(wěn)定性？氧化鈰拋光液主要用于玻璃、藍(lán)寶石、光學(xué)及異形工件的拋磨，液體的分散懸浮狀態(tài)決定拋光液的使用效果和拋磨效率。磨料比重較大的話容易沉底，同時(shí)出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象會極大影響拋光效果，甚至損壞拋光設(shè)備。吉致電子氧化鈰拋光液的分散性、懸浮穩(wěn)定性，主要與以下幾個(gè)方面相關(guān)：1.分散劑種類，添加量；2.氧化鈰拋光液的PH值；3.氧化鈰拋光液的介質(zhì)；注意這3點(diǎn)然后調(diào)整配方相信能獲得穩(wěn)定性佳的拋光液產(chǎn)品。吉致電子氧化鈰拋光液由優(yōu)質(zhì)氧化鈰微粉制備而成，純度高，氧化鈰含量高，配方分散性好、乳液均勻懸浮性佳。切削能力強(qiáng)

拋光液對人有危害嗎？[ 07-21 14:38 ]

  拋光液是用于精密、超精密加工（比如半導(dǎo)體晶圓）的CMP耗材，是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑。拋光液成分是由拋光粉磨料加上水基或油基的底液制備而成的懸浮液。里面除了有微米級和納米級的磨料，還有一些輔助添加劑比如活性劑、分散劑、氧化劑等等。  根據(jù)拋磨工件材質(zhì)不同拋光液往往呈現(xiàn)一定的酸性或堿性，酸堿度是用于軟化工件表面以加速磨削，減少對工件的沖擊劃傷，對人的皮膚有輕微腐蝕性，工作時(shí)可戴上防腐手套，防腐衣服等做好防護(hù)工作。不過隨著技術(shù)進(jìn)步和配液方式改進(jìn)，中性PH的拋光液產(chǎn)品也越來越多

吉致電子--拋光液可以自己調(diào)配嗎？[ 07-20 16:52 ]

 解答一下最近很多客戶會問到的問題：拋光液可以自己調(diào)配嗎？ 答案是：不可以  很多客戶對CMP拋光液的誤解是拋光粉加上液體就能得到拋光液成品了，這是個(gè)誤區(qū)哦。雖然客戶收到的拋光液是瓶裝或桶裝的液體形態(tài)，但是這是經(jīng)過科學(xué)配比和特殊工藝制備而成的。不同材質(zhì)工件拋磨會用到不同的微粉磨料組合，配液也分水基和油基2種。拋光劑在配液的過程中要用到特定設(shè)備進(jìn)行操作，如溫度測量儀，PH檢測儀，天秤稱這些都是基本的生產(chǎn)設(shè)備，還要經(jīng)過高速攪拌，均質(zhì)等。  很多非正規(guī)渠道生產(chǎn)商用到手工方法進(jìn)行配液

精密工件的拋光方式有哪些？[ 07-01 09:59 ]

拋光技術(shù)是使工件表面成為光滑鏡面的精密加工技術(shù)，其目的是使工件的表面粗糙度(RA值)和平整度達(dá)到一定的允許范圍。拋光不僅增加了工件的美觀，而且改善了材料表面的性能，延長了工件的使用壽命。目前常用的拋光（(Polishing)）方法有：(1)機(jī)械拋光，通過切削和材料表面的塑性變形來去除工件表面突出部分的光滑拋光方法。(2)電化學(xué)拋光，是一種基于電解溶解原理去除金屬的拋光方法。(3)流體拋光，是利用高速流動的液體及其磨粒沖刷工件表面，達(dá)到拋光的目的。(4)磁流變拋光(Magnetorheological Finishi

研磨液的作用是什么？[ 06-28 11:48 ]

  研磨液通常由表面活性劑、PH調(diào)節(jié)劑、分散劑、螯合劑等組分組成，各組發(fā)揮不同的作用。通過化學(xué)原理對工件表面進(jìn)行化學(xué)腐蝕，然后在研磨液中高速運(yùn)動的磨料對工件表面的磨削及擠壓等綜合作用下，實(shí)現(xiàn)對工件表面的拋磨加工。研磨液具體作用可以歸納為5點(diǎn)，吉致電子小編給您介紹一下吉致研磨液的作用。吉致電子研磨液被攪拌均勻后，少量滴入研磨盤內(nèi)部，在研磨拋光過程時(shí)拋光液會粘附在工件與合成磨盤的表面，其作用如下：①研磨液具有軟化作用：即對金屬表面氧化膜的化學(xué)作用，使其軟化，易于從表面研磨除去，以提高研磨效率。②研磨液具有防銹

氧化硅拋光液顏色的區(qū)別[ 06-23 13:42 ]

吉致電子氧化硅拋光液的顏色有白色、乳白色和淺藍(lán)色。硅溶膠拋光液顏色不同，其二氧化硅含量和用途也不一樣。一般來說，二氧化硅拋光液顏色越藍(lán)，濃度越高，粒度越細(xì)。濃度降低顏色就會變白，但是含量過低也會變白，這個(gè)要做濃度測試才能判斷。二氧化硅拋光液的顏色不同，拋光工件的類型和粒度也不同。一般鑄造鋁合金的液態(tài)二氧化硅是藍(lán)色的，且藍(lán)色比較透明，這樣的氧化硅粒徑較小，因?yàn)殇X合金鏡面的光澤度要求更高。一般來說，工件光澤度要求越高，拋光耗材的粒度越小，這就決定了鋁合金拋光液粒度要達(dá)納米級別的原因。拋光不銹鋼金屬的氧化硅溶液一般為乳白

CMP拋光液的應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？[ 07-13 14:07 ]

CMP拋光液主要應(yīng)用于LED行業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)。CMP是Chemical Mechanical Planarization的縮寫，意思是化學(xué)機(jī)械平坦化。