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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致資訊]吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些[ 2024-12-17 15:37 ]
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些?化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)是目前國際上公認(rèn)的唯一能夠?qū)崿F(xiàn)全局平坦化的技術(shù),在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域中占據(jù)著舉足輕重的地位。CMP精拋墊,作為CMP化學(xué)機(jī)械平面研磨(Chemical Mechanical Polishing)精拋階段所使用的拋光墊,是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的關(guān)鍵耗材。吉致電子CMP拋光墊--精拋墊的功能特點(diǎn)將通過以下四個方面進(jìn)行闡述:  CMP精拋墊在CMP工藝流程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,其主要功能涵蓋:1.確保拋光液能夠高效且均勻
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