- [常見問題]吉致電子納米氧化鈰拋光液：給半導(dǎo)體CMP工藝加足馬力！[ 2025-11-13 11:41 ]
- 在半導(dǎo)體芯片微型化、光學(xué)器件高精度化的發(fā)展浪潮中，化學(xué)機械拋光（CMP）作為實現(xiàn)材料表面全局平面化的關(guān)鍵工藝，其技術(shù)水平直接決定了終端產(chǎn)品的性能與品質(zhì)。氧化鈰拋光液憑借其獨特的化學(xué)機械協(xié)同作用優(yōu)勢，成為CMP工藝中的核心耗材之一。吉致電子深耕拋光材料領(lǐng)域多年，憑借自主研發(fā)的氧化鈰拋光液系列產(chǎn)品，為半導(dǎo)體、光學(xué)等多個行業(yè)提供高效、精準(zhǔn)的拋光解決方案，助力產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。聚焦核心場景解鎖全行業(yè)拋光價值吉致電子氧化鈰拋光液基于不同行業(yè)的拋光需求，進(jìn)行精準(zhǔn)配方設(shè)計，在關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定應(yīng)用，展現(xiàn)出強大的場景適配能力。①半導(dǎo)體
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http://m.lygpingan.cn/Article/jzdznmyhsp_1.html
- [吉致動態(tài)]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點[ 2023-03-03 09:15 ]
- 通?；瘜W(xué)機械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液（又稱稀土拋光液）。 納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進(jìn)的分散工藝，將納米氧化鈰粉體分散在水相介質(zhì)中，形成高度分散化、均勻化和穩(wěn)定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應(yīng)用中，納米CeO2拋光液相對硅溶膠，具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優(yōu)勢，且PH中性，使用壽命長、對拋光表面污染小，不易風(fēng)干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上，尤其是拋光超薄硅片，納米氧化鈰
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- [常見問題]吉致電子---氧化鈰研磨液在半導(dǎo)體CMP制程中的作用[ 2023-02-10 13:09 ]
- 粒徑30-50nm的球形氧化鈰研磨液用于半導(dǎo)體芯片制程：應(yīng)用于芯片制程中氧化硅薄膜、集成電路STI(淺溝槽隔離層)CMP STI目前已成為器件之間隔離的關(guān)鍵技術(shù)，目前已取代LOCOS(硅的局部氧化)技術(shù)。其主要步驟包括在純硅片上刻蝕淺溝槽、進(jìn)行二氧化硅沉積、后用CMP技術(shù)進(jìn)行表面平坦化。目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料，在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產(chǎn)品。 納米氧化鈰拋光液在硅晶圓CMP平坦化的效果優(yōu)異 粒徑小于100nm的球形氧化鈰拋光液用于單晶硅片表面C
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