- [吉致動態(tài)]磷化銦襯底拋光液與CMP工藝的關聯(lián)[ 2025-02-07 11:33 ]
- 磷化銦襯底拋光液與化學機械平面研磨工藝（CMP）的關聯(lián)磷化銦（InP）作為第二代半導體材料的代表，因其優(yōu)異的電學、光學和熱學性能，在高速電子器件、光電子器件和微波器件等領域展現(xiàn)出巨大的應用潛力。然而InP襯底表面的高質(zhì)量加工是實現(xiàn)高性能器件的關鍵，其中化學機械平面研磨工藝（CMP）扮演著至關重要的角色。一、 磷化銦襯底為什么使用CMP技術CMP是一種結合化學腐蝕和機械研磨的表面平坦化技術，通過拋光液slurry中的磨料成分與襯底表面發(fā)生化學反應，生成一層易于去除的軟化層，再借助拋光墊Pad的機械作用將其去除，從而實
-
http://m.lygpingan.cn/Article/lhycdpgyyc_1.html
相關搜索
- 無相關搜索
吉致熱門資訊
-
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些 -
喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團建活動
-
吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
-
氧化硅拋光液的結晶問題
-
鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
-
什么是金剛石研磨液
-
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
-
吉致電子CMP拋光液適用設備有哪些？
-
納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
-
相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團建活動
-
吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
-
吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
-
吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
-
不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
-
吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序
-
吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液
-
硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密
-
2023吉致電子春節(jié)放假通知
-
吉致電子常見的CMP研磨液
-
CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點
