吉致資訊第141期 拋光液的組成及其他影響因素
1、拋光液組成:為了保證化學拋光的效果,須使金屬表面溶解,并在表面形成前述的液體膜或固體膜?;瘜W拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑、添加劑和水。其中,腐蝕劑是主要成分,主要使工件在溶液中溶解;氧化劑和添加劑可抑制腐蝕過程,使反應朝有利于拋光的方向進行;水對溶液濃度起調(diào)節(jié)作用,便于反應產(chǎn)物的擴散。
用作金屬溶解的成分一般是酸,其中用得較多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO、HF等強酸,而對鋁那樣的兩性金屬,也可用NaOH,在這些酸中由于高濃度的磷酸和硫酸都具有較高的黏度,可形成液體膜擴散層,故這種成分具有兩種功能。這也是在化學拋光液的組成中主要采用磷酸和硫酸的原因。為了提高黏度,使擴散層容易形成,也可加進明膠或甘油等能提高黏度的添加劑。為了加快固體膜的形成,則需加入以硝酸或鉻酸為主的強氧化劑。
2、拋光時間:化學拋光存在一個佳拋光時間范圍。若時間過短,只能獲得沒有光澤的梨皮狀表面;若時間過長,不僅溶液損失增大,而且加工表面會出現(xiàn)污點或斑點。而這個時間范圍受材料、拋光液組成及拋光溫度等因素的影響,通常難以預測,只能通過實驗測定。化學拋光中往往同時產(chǎn)生氫氣,這是在拋光具有氫脆敏感性材料時須注意的問題。另外拋光液溫度高達100~200CC時,還會發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到低,就須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時間。
3、拋光溫度:化學拋光時,溶解速度隨著拋光液溫度的提高而顯著增加。此外,強氧化性的酸在高溫時的氧化作用會變得很顯著。在化學拋光中,由于這些酸的溶解作用和氧化作用會同時發(fā)生,故多數(shù)情況下都是把拋光液加熱到較高溫度來進行拋光的。
需要提供溫度來進行拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等,若溫度低于某一定值,就會失去光滑的腐蝕表面,故存在一個形成光澤面的臨界點,在臨界點以上的溫度范圍內(nèi)拋光效果較好。而這個溫度范圍又因液體的組成不同而異,如果高于這個溫度范圍,會形成點蝕、局部污點或斑點,使整個拋光效果降低。此外,溫度越高,材料的溶解損失也越大。
━━━━━━━━━━━━━━━◆分割線◆━━━━━━━━━━━━━━━
『拋光皮』
拋光皮種類:阻尼布拋光皮,聚氨酯拋光皮,白磨皮拋光皮
『拋光液』
拋光液種類:氧化硅拋光液,氧化鋁拋光液,金剛石拋光液
『吉致電子』拋光材料 源頭廠家 25年專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)
高速拋磨精密表面 高效·環(huán)保·安全
轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接 http://m.lygpingan.cn/
無錫吉致電子科技有限公司
咨詢熱線:17706168670
相關(guān)資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 吉致電子榮獲第四屆亞太碳化硅及相關(guān)材料國際會議“優(yōu)秀組織獎”
- 吉致電子科技碳化硅研磨液的作用
- 吉致電子手機中框拋光液及智能穿戴設(shè)備表面處理
- 藍寶石襯底研磨用什么拋光液
- 半導體先進制程PAD拋光墊國產(chǎn)替代進行中
- CMP在半導體晶圓制程中的作用
- TSV拋光液---半導體3D封裝技術(shù)Slurry
- 藍寶石窗口平面加工--藍寶石研磨液
- 什么是OX研磨液?吉致電子氧化層拋光液性能有哪些?
- 半導體行業(yè)CMP化學機械平坦化工藝Slurry