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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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福吉電子采用精密技術(shù)，提供超高質(zhì)量產(chǎn)品
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[常見(jiàn)問(wèn)題]半導(dǎo)體CMP耗材G804W拋光墊國(guó)產(chǎn)替代認(rèn)準(zhǔn)吉致電子[ 2025-12-11 16:42 ]
全球局勢(shì)風(fēng)云多變，半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全面臨“卡脖子”風(fēng)險(xiǎn)全球CMP拋光墊市場(chǎng)呈現(xiàn)高度壟斷格局，美國(guó)杜邦一家企業(yè)便占據(jù)全球79% 的市場(chǎng)份額，日本Fujibo富士紡旗下的G804W等高端型號(hào)拋光墊的供應(yīng)更是被少數(shù)海外廠商牢牢把控。近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體領(lǐng)域國(guó)際貿(mào)易摩擦加劇，海外供應(yīng)商的出口管制政策頻發(fā)，直接沖擊國(guó)內(nèi)晶圓廠的生產(chǎn)穩(wěn)定性。2025年某國(guó)際拋光液大廠突發(fā)斷供事件，已為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈敲響警鐘 —— 核心耗材的進(jìn)口依賴，將使整個(gè)芯片制造環(huán)節(jié)陷入“牽一發(fā)而動(dòng)全
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子：半導(dǎo)體陶瓷CMP工藝拋光耗材解析[ 2025-05-16 17:45 ]
在半導(dǎo)體陶瓷的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝中，吉致電子（JEEZ Electronics）作為國(guó)產(chǎn)CMP耗材供應(yīng)商，其拋光液（Slurry）和拋光墊（Polishing Pad）等產(chǎn)品可應(yīng)用于陶瓷材料的精密平坦化加工。以下是結(jié)合吉致電子的技術(shù)特點(diǎn)，半導(dǎo)體陶瓷CMP中的潛在應(yīng)用方案：吉致電子CMP拋光液在半導(dǎo)體陶瓷中的應(yīng)用半導(dǎo)體陶瓷CMP研磨拋光漿料特性與適配性CMP Slurry磨料類型：納米氧化硅（SiO2）漿料：適用于SiC、GaN等硬質(zhì)陶瓷，通過(guò)表面氧化反應(yīng)（如SiC + H2O2 → SiO2 +
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子CMP Pad化學(xué)機(jī)械拋光墊[ 2024-12-27 18:27 ]
吉致電子專注研發(fā)、設(shè)計(jì)、測(cè)試與生產(chǎn)制造CMP耗材，CMP PAD化學(xué)機(jī)械拋光墊用于半導(dǎo)體制造、平面顯示器、光學(xué)玻璃、各類晶圓襯底材料、高精密陶瓷件、金屬與硬盤(pán)基板的研磨拋光工藝。吉致電子CMP拋光墊采用精密涂布技術(shù)和科技材料能有效提升客戶制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致拋光墊團(tuán)隊(duì)從事高分子材料合成、發(fā)泡技術(shù)與復(fù)合材料研制已有多年經(jīng)驗(yàn)，積累深厚的材料制造和研發(fā)基礎(chǔ).拋光墊產(chǎn)品因其特殊纖維材質(zhì)，耐用、耐磨、耐酸堿，價(jià)比高。PAD產(chǎn)品包括且不限于：聚氨酯拋光墊、阻尼布精拋墊、復(fù)合拋光墊、絨面拋光墊、無(wú)紡布拋光
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[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP設(shè)備及耗材對(duì)半導(dǎo)體硅片拋磨有影響嗎？[ 2024-03-20 17:22 ]
CMP設(shè)備及耗材對(duì)工藝效果影響嗎？答案是：有關(guān)鍵影響。CMP工藝離不開(kāi)設(shè)備機(jī)臺(tái)及耗材，其中耗材包括拋光墊和拋光液。影響CMP效果主要因素如下：①設(shè)備參數(shù)：拋光時(shí)間、研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速、拋光頭轉(zhuǎn)速、拋光頭搖擺度、背壓、下壓力等；②研磨液參數(shù)：磨粒大小、磨粒含量、磨粒凝聚度、酸堿度、氧化劑含量、流量、粘滯 系數(shù)等 ；③拋光墊參數(shù)：硬度、密度、空隙大小、彈性等；④CMP對(duì)象薄膜參數(shù)：種類、厚度、硬度、化學(xué)性質(zhì)、圖案密度等。CMP耗材包括拋光液、拋光墊、鉆石碟、清洗液等，對(duì) CMP 工藝效應(yīng)均有關(guān)鍵影響。1. CMP 拋
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[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP化學(xué)機(jī)械拋光在半導(dǎo)體領(lǐng)域的重要作用[ 2023-12-21 11:53 ]
  化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是半導(dǎo)體晶圓制造的關(guān)鍵步驟，這項(xiàng)工藝能有效減少和降低晶圓表面的不平整，達(dá)到半導(dǎo)體加工所需的高精度平面要求。拋光液(slurry)、拋光墊(pad)是CMP技術(shù)的關(guān)鍵耗材，分別占CMP耗材49%和33%的價(jià)值量，CMP耗材品質(zhì)直接影響拋光效果，對(duì)提高晶圓制造質(zhì)量至關(guān)重要。  CMP拋光液/墊技術(shù)壁壘較高，高品質(zhì)的拋光液需要綜合控制磨料硬度、粒徑、形狀、各成分質(zhì)量濃度等要素。拋光墊則更加看重低缺陷率和長(zhǎng)使用壽命。配置多功能,高效率的拋光液是提升CMP效果的重要環(huán)節(jié)。&nbs
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[常見(jiàn)問(wèn)題]拋光液對(duì)人有危害嗎？[ 2022-07-21 14:38 ]
  拋光液是用于精密、超精密加工（比如半導(dǎo)體晶圓）的CMP耗材，是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑。拋光液成分是由拋光粉磨料加上水基或油基的底液制備而成的懸浮液。里面除了有微米級(jí)和納米級(jí)的磨料，還有一些輔助添加劑比如活性劑、分散劑、氧化劑等等。  根據(jù)拋磨工件材質(zhì)不同拋光液往往呈現(xiàn)一定的酸性或堿性，酸堿度是用于軟化工件表面以加速磨削，減少對(duì)工件的沖擊劃傷，對(duì)人的皮膚有輕微腐蝕性，工作時(shí)可戴上防腐手套，防腐衣服等做好防護(hù)工作。不過(guò)隨著技術(shù)進(jìn)步和配液方式改進(jìn)，中性PH的拋光液產(chǎn)品也越來(lái)越多
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